光刻机
设备名称:光刻机
型号:G-25/成都鑫南光机械设备有限公司
主要功能:用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产,适合各型基片的曝光,而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。
主要技术参数:
1.曝光类型:单面;
2.曝光面积:≥110*110mm;
3.曝光照度不均匀性:≤3%;
4.曝光强度:≥49mw/cm2可调;
5.紫外光束角:≤3°;
6.紫外光中心波长:365nm;
7.紫外光源寿命:≥2万小时;
8.曝光分辨率:≤1um。