设备名称：光刻机

型号：G-25/成都鑫南光机械设备有限公司

主要功能：用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产，适合各型基片的曝光，而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。

主要技术参数：

1.曝光类型：单面；

2.曝光面积：≥110*110mm；

3.曝光照度不均匀性：≤3%；

4.曝光强度：≥49mw/cm2可调；

5.紫外光束角：≤3°；

6.紫外光中心波长：365nm；

7.紫外光源寿命：≥2万小时；

8.曝光分辨率：≤1um。