设备名称：热阻蒸发镀膜机

型号：DZ450/中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

主要功能：在高真空的环境下，对金属及化合物等进行热阻蒸发，通过电极柱加热后，使材料达到蒸发温度后气化蒸发，电子束蒸发系统可进一步提升蒸镀精度，可蒸镀具有超高沸点的金属和金属化合物，并使其在样品台上沉积成膜，通过镀膜控制系统的控制，从而制备出所需材料的薄膜。可蒸镀薄膜种类有：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。

主要技术参数：

1.极限真空度：5*10-5Pa；

2.充入干燥的氮气抽至5*10-4Pa；

3.真空室漏率：关机12小时≤10Pa；

4.样品升降范围为0-50mm；

5.沉积源：钨舟3个，有机源2个；

6.真空室尺寸：400×400×450mm;

7.样品尺寸、温度：4寸，1片，最高800℃；

8.薄膜厚度均匀性：≤±5%。