热阻蒸发镀膜机
设备名称:热阻蒸发镀膜机
型号:DZ450/中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
主要功能:在高真空的环境下,对金属及化合物等进行热阻蒸发,通过电极柱加热后,使材料达到蒸发温度后气化蒸发,电子束蒸发系统可进一步提升蒸镀精度,可蒸镀具有超高沸点的金属和金属化合物,并使其在样品台上沉积成膜,通过镀膜控制系统的控制,从而制备出所需材料的薄膜。可蒸镀薄膜种类有:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。
主要技术参数:
1.极限真空度:5*10-5Pa;
2.充入干燥的氮气抽至5*10-4Pa;
3.真空室漏率:关机12小时≤10Pa;
4.样品升降范围为0-50mm;
5.沉积源:钨舟3个,有机源2个;
6.真空室尺寸:400×400×450mm;
7.样品尺寸、温度:4寸,1片,最高800℃;
8.薄膜厚度均匀性:≤±5%。