设备名称：高真空磁控溅射镀膜机

型号：CK600/沈阳鹏程真空技术有限公司

主要功能：

1.营造高真空：用真空泵组将镀膜腔室气压降至 10⁻⁵ Pa 甚至更低，减少气体干扰，保障镀膜质量。

2.磁控溅射：在高真空下，借电磁场使惰性气体电离轰击靶材，靶材原子沉积在基片成膜，可换靶材镀多种薄膜。

3.精确控膜厚：靠石英晶体振荡膜厚监测仪实时监测，调控参数，实现纳米级膜厚精度。

主要技术参数：

1.极限真空优于:2.0x10-5Pa(经烘烤除气后)

2.真空漏率小于2.0x10-8Pa.1/S

3.系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到7.0x10-4Pa;

4.停泵关机10小时后真空度:≤1Pa

5.真空室腔体尺寸卧式筒型Ф560mmX800mm，手动前开门,门板固定在滑道上水平滑动定位结构

6.靶材尺寸:Ф60mm(其中一个可以溅射磁性材料);

7.3个靶可共同向样品筒中心溅射样品筒外壁，靶与样品距离50~90mm可调。1个靶在门上向样品筒内壁上溅射,水平方向可调